Avantage du rayonnement UV !
Le rayonnement UV est un rayonnement riche en énergie, plus les ondes sont courtes (UV-C), plus l’énergie est élevée par photon. Ainsi, certaines applications peuvent être extrêmement accélérées, améliorées en qualité ou même seulement rendues possibles. Certains procédés de nettoyage, lorsqu'ils sont effectués avec des produits chimiques, contiennent également des déchets toxiques qui manquent lorsque le processus est exécuté avec un rayonnement UV.
La Décharge ![Funktion Xeradex]()
"DBD" ou comment générer un rayonnement à 172 nm?
Pour la soi-disant décharge de barrière diélectrique (Dielectric Barrier Discharge), un récipient à décharge - une ampoule à quartz dans le cas de lampes Xeradex® - sert à insérer une électrode interne et à appliquer des électrodes externes sous forme de bandes, remplies de gaz (xénon) et scellées dans une manière serrée. Le remplissage de gaz est excité par un courant électrique pulsé, de sorte que des photons de haute énergie sont libérés lors du processus de décharge. Ce rayonnement a alors exactement la longueur d'onde de 172 nm et peut être utilisé pour une telle application (par exemple, la génération d'ozone). La 
génération de rayonnement dans des longueurs d'ondes plus courtes est techniquement pratiquement impossible (uniquement avec un plasma ouvert).
Ce rayonnement a alors exactement la longueur d'onde de 172 nm et peut être utilisé pour l'application (par exemple, la génération d'ozone).
La génération de rayonnement dans des longueurs d'ondes plus courtes est techniquement pratiquement impossible (uniquement avec un plasma ouvert).
Le Procédé Excimer ![Excimer-Prozess]()
Dans le gaz xénon qui se trouve dans l’ampoule du radiateur, la stimulation électrique provoque l’instabilité des molécules de xénon Xe2*, appelées excimères. Celles-ci se désintègrent relativement rapide et n'émettent que les photons de haute énergie avec une énergie de 7,2 eV sous forme de rayonnement à une longueur d'onde de 172 nm.
La largeur de raie FWHM (largeur maximale à mi-hauteur) est très faible à 14 nm. Ainsi, le rayonnement peut être utilisé de manière très sélective pour des processus.
La profondeur de pénétration du rayonnement dépend essentiellement des propriétés du substrat.
Efficacité particulière grâce au mode pulsé breveté
Le processus excimer est traditionnellement stimulé par une tension alternative dans la plage des kV.
Si cette haute tension est délivrée par le dispositif d'exploitation mais sous forme d'impulsion, le rendement augmente jusqu'à environ 40%. Certains ballasts électroniques sont même entièrement contrôlables par ordinateur.
Fonctionnement et Environnement
Utilisation de miroirs: densité de rayonnement augmentée
Les miroirs réfléchissant le rayonnement VUV nécessitent un revêtement spécial. Ils sont conçus de manière optimale par un processus de simulation informatique spécial, de sorte que le rayonnement soit distribué de manière efficace et homogène. Cela augmente l'intensité du rayonnement du substrat d'environ 60%!
Ainsi, pour chaque lampe Xeradex®, il y a un miroir spécial, de taille adaptée.
Veuillez respecter les instructions de nettoyage pour cela.
Traitement de surface sous vide ou basse pression
Si la surface à traiter ne doit pas entrer en contact avec de l'air ou d'autres gaz, l'irradiation UV dans le vide est la seule méthode techniquement réalisable. C'est par exemple dans des procédés de revêtement tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD).
Pour cela, il existe des modèles spéciaux Xeradex® avec bride à vide, dans lesquels le raccordement électrique est en dehors du vide.